東莞市浩華儀器設備有限公司

國家知識產權局信息顯示，蘇州博眾儀器科技有限公司取得一項名為“鏡片澆注設備及鏡片澆注方法”的專利，授權公告號CN118700408B，申請日期為2024年7月。天眼查資料顯示，蘇州博眾儀器科技有限公司，成立于2020年，位于蘇州市，是一家以從事儀器儀表制造業(yè)為主的企業(yè)。企業(yè)注冊資本2992.5925萬人民幣。通過天眼查大數據分析，蘇州博眾儀器科技有限公司參與招投標項目4次，專利信息64條，此外企業(yè)還擁有行政許可8個。聲明：市場有風險，投資需謹慎。本文為AI基于第三方數據生成，僅供參考，不構成個人投資建議。

證券之星消息，根據天眼查APP-財產線索數據整理，根據內蒙古包鋼鋼聯股份有限公司1月9日發(fā)布的《包鋼化檢驗中心2026年度化學分析儀器、物理檢驗設備校準檢定詢比成交結果公示》內容顯示，鋼研納克檢測技術股份有限公司中標，詳情如下：標題：包鋼化檢驗中心2026年度化學分析儀器、物理檢驗設備校準檢定詢比成交結果公示通過天眼查大數據分析，鋼研納克檢測技術股份有限公司共對外投資了7家企業(yè)，參與招投標項目1287次；財產線索方面有商標信息210條，專利信息341條，著作權信息86條；此外企業(yè)還擁有行政許可141個。數據來源：天眼查APP

南財投研通數據分析師 秦健投研君曾在6月11日分享了印刷包裝產業(yè)領軍企業(yè)裕同科技，近期股價刷新了2023年2月以來新高，最高報收30.63元，若按見報當日收盤價23.92元買入，收益率將達到28%。在近期行情變化增多的背景下，我們依然可以感受到南財投研通系統(tǒng)識別優(yōu)秀分析師的過硬實力，為搭建多元化策略立下汗馬功勞。今天投研君介紹一個環(huán)保行業(yè)的上市公司。聚光科技始終堅持致力于高端分析儀器的研制、產業(yè)化及創(chuàng)新應用，擁有國內領先的質譜、色譜、光譜技術和產品平臺，業(yè)務涵蓋智慧環(huán)境(環(huán)境監(jiān)測分析儀器、數智“雙碳”綜合管控解決方案)、智慧工業(yè)(工業(yè)過程分析、半導體工業(yè)精密檢測)、智慧實驗室(高端分析儀器技術平臺、新型污染物監(jiān)測分析、全自動AI實驗室)、生命科學(臨床質譜、細胞分析、分子免疫、核酸分析)等領

來源：新浪財經-鷹眼工作室【深圳訊】深圳市瑞凌實業(yè)集團股份有限公司（證券代碼：300154，證券簡稱：瑞凌股份）于2026年1月9日召開第六屆董事會第九次會議，審議通過了《關于擬變更公司經營范圍與修訂部分條款的議案》。公司擬在現有業(yè)務基礎上，新增"實驗分析儀器銷售"和"特種設備銷售"兩大業(yè)務板塊，以進一步拓展業(yè)務領域。公告顯示，瑞凌股份此次經營范圍調整是基于公司業(yè)務發(fā)展需要。對比變更前后的經營范圍，公司在原有焊割設備、電源設備、金屬材料及制品等核心業(yè)務基礎上，明確新增了"實驗分析儀器銷售"和"特種設備銷售"兩項業(yè)務內容。項目 變更前經營范圍核心內容 變更后新增內容 核心業(yè)務 焊割設備、電源設備、自動化控制系統(tǒng)的技術開發(fā)與銷售；金屬材料及制品制造銷售；非金屬礦物制品制造銷售等 實驗分析儀器銷售

證券之星消息，根據天眼查APP-財產線索數據整理，根據重慶市墊江縣疾病預防控制中心1月11日發(fā)布的《2026年墊江縣疾病預防控制中心儀器設備檢定/校準項目》內容顯示，深圳天溯計量檢測股份有限公司中標，詳情如下：標題：2026年墊江縣疾病預防控制中心儀器設備檢定/校準項目通過天眼查大數據分析，深圳天溯計量檢測股份有限公司共對外投資了24家企業(yè)，參與招投標項目4769次；財產線索方面有商標信息70條，專利信息151條，著作權信息78條；此外企業(yè)還擁有行政許可404個。數據來源：天眼查APP

國家知識產權局信息顯示，德州儀器公司申請一項名為“用于支撐受測試裝置的設備”的專利，公開號CN121324693A，申請日期為2024年7月。專利摘要顯示，提供了一種用于支撐受測試裝置DUT的設備。所述設備包含從第一面(204)延伸到外殼(400)的體積中的一組插口(402)。所述設備進一步包含安裝在所述外殼(400)內的襯底(500)。所述襯底(500)具有平面表面，所述平面表面具有在所述平面表面上的多個襯底端子(502?512)。所述多個襯底端子(502?512)中的每一襯底端子駐留在所述一組插口(402)中的相應插口中。所述設備還進一步包含多個執(zhí)行器(842)。所述執(zhí)行器(842)中的每一個朝向所述襯底端子(502?512)中的相應一個對具有接觸指(702?712)的接觸指組合件(70

國家知識產權局信息顯示，江蘇魯汶儀器股份有限公司、北方集成電路技術創(chuàng)新中心（北京）有限公司申請一項名為“一種半導體刻蝕設備及其控制方法”的專利，公開號CN121331731A，申請日期為2024年7月。專利摘要顯示，本申請?zhí)峁┮环N半導體刻蝕設備及其控制方法，半導體刻蝕設備包括柵網和至少一個電磁線圈；柵網包括多個網孔，離子束可以通過柵網的網孔進行引出。電磁線圈圍繞至少一個網孔或多個網孔環(huán)繞電磁線圈，至少一個電磁線圈用于提供目標形狀和目標強度的磁場，以利用目標形狀和目標強度的磁場控制通過多個網孔的離子束的空間分布，也就是說，通過在網孔周圍預先設置至少一個電磁線圈，通過設置至少一個電磁線圈的位置以及電流大小確定目標形狀和目標強度的磁場，目標形狀和目標強度的磁場就能夠對通過網孔的離子束進行空間分布的