東莞市浩華儀器設(shè)備有限公司

證券之星消息，根據(jù)天眼查APP-財產(chǎn)線索數(shù)據(jù)整理，根據(jù)內(nèi)蒙古包鋼鋼聯(lián)股份有限公司1月9日發(fā)布的《包鋼化檢驗中心2026年度化學(xué)分析儀器、物理檢驗設(shè)備校準檢定詢比成交結(jié)果公示》內(nèi)容顯示，鋼研納克檢測技術(shù)股份有限公司中標，詳情如下：標題：包鋼化檢驗中心2026年度化學(xué)分析儀器、物理檢驗設(shè)備校準檢定詢比成交結(jié)果公示通過天眼查大數(shù)據(jù)分析，鋼研納克檢測技術(shù)股份有限公司共對外投資了7家企業(yè)，參與招投標項目1287次；財產(chǎn)線索方面有商標信息210條，專利信息341條，著作權(quán)信息86條；此外企業(yè)還擁有行政許可141個。數(shù)據(jù)來源：天眼查APP

南財投研通數(shù)據(jù)分析師 秦健投研君曾在6月11日分享了印刷包裝產(chǎn)業(yè)領(lǐng)軍企業(yè)裕同科技，近期股價刷新了2023年2月以來新高，最高報收30.63元，若按見報當(dāng)日收盤價23.92元買入，收益率將達到28%。在近期行情變化增多的背景下，我們依然可以感受到南財投研通系統(tǒng)識別優(yōu)秀分析師的過硬實力，為搭建多元化策略立下汗馬功勞。今天投研君介紹一個環(huán)保行業(yè)的上市公司。聚光科技始終堅持致力于高端分析儀器的研制、產(chǎn)業(yè)化及創(chuàng)新應(yīng)用，擁有國內(nèi)領(lǐng)先的質(zhì)譜、色譜、光譜技術(shù)和產(chǎn)品平臺，業(yè)務(wù)涵蓋智慧環(huán)境(環(huán)境監(jiān)測分析儀器、數(shù)智“雙碳”綜合管控解決方案)、智慧工業(yè)(工業(yè)過程分析、半導(dǎo)體工業(yè)精密檢測)、智慧實驗室(高端分析儀器技術(shù)平臺、新型污染物監(jiān)測分析、全自動AI實驗室)、生命科學(xué)(臨床質(zhì)譜、細胞分析、分子免疫、核酸分析)等領(lǐng)

來源：新浪財經(jīng)-鷹眼工作室【深圳訊】深圳市瑞凌實業(yè)集團股份有限公司（證券代碼：300154，證券簡稱：瑞凌股份）于2026年1月9日召開第六屆董事會第九次會議，審議通過了《關(guān)于擬變更公司經(jīng)營范圍與修訂部分條款的議案》。公司擬在現(xiàn)有業(yè)務(wù)基礎(chǔ)上，新增"實驗分析儀器銷售"和"特種設(shè)備銷售"兩大業(yè)務(wù)板塊，以進一步拓展業(yè)務(wù)領(lǐng)域。公告顯示，瑞凌股份此次經(jīng)營范圍調(diào)整是基于公司業(yè)務(wù)發(fā)展需要。對比變更前后的經(jīng)營范圍，公司在原有焊割設(shè)備、電源設(shè)備、金屬材料及制品等核心業(yè)務(wù)基礎(chǔ)上，明確新增了"實驗分析儀器銷售"和"特種設(shè)備銷售"兩項業(yè)務(wù)內(nèi)容。項目 變更前經(jīng)營范圍核心內(nèi)容 變更后新增內(nèi)容 核心業(yè)務(wù) 焊割設(shè)備、電源設(shè)備、自動化控制系統(tǒng)的技術(shù)開發(fā)與銷售；金屬材料及制品制造銷售；非金屬礦物制品制造銷售等 實驗分析儀器銷售

證券之星消息，根據(jù)天眼查APP-財產(chǎn)線索數(shù)據(jù)整理，根據(jù)重慶市墊江縣疾病預(yù)防控制中心1月11日發(fā)布的《2026年墊江縣疾病預(yù)防控制中心儀器設(shè)備檢定/校準項目》內(nèi)容顯示，深圳天溯計量檢測股份有限公司中標，詳情如下：標題：2026年墊江縣疾病預(yù)防控制中心儀器設(shè)備檢定/校準項目通過天眼查大數(shù)據(jù)分析，深圳天溯計量檢測股份有限公司共對外投資了24家企業(yè)，參與招投標項目4769次；財產(chǎn)線索方面有商標信息70條，專利信息151條，著作權(quán)信息78條；此外企業(yè)還擁有行政許可404個。數(shù)據(jù)來源：天眼查APP

國家知識產(chǎn)權(quán)局信息顯示，德州儀器公司申請一項名為“用于支撐受測試裝置的設(shè)備”的專利，公開號CN121324693A，申請日期為2024年7月。專利摘要顯示，提供了一種用于支撐受測試裝置DUT的設(shè)備。所述設(shè)備包含從第一面(204)延伸到外殼(400)的體積中的一組插口(402)。所述設(shè)備進一步包含安裝在所述外殼(400)內(nèi)的襯底(500)。所述襯底(500)具有平面表面，所述平面表面具有在所述平面表面上的多個襯底端子(502?512)。所述多個襯底端子(502?512)中的每一襯底端子駐留在所述一組插口(402)中的相應(yīng)插口中。所述設(shè)備還進一步包含多個執(zhí)行器(842)。所述執(zhí)行器(842)中的每一個朝向所述襯底端子(502?512)中的相應(yīng)一個對具有接觸指(702?712)的接觸指組合件(70

國家知識產(chǎn)權(quán)局信息顯示，江蘇魯汶儀器股份有限公司、北方集成電路技術(shù)創(chuàng)新中心（北京）有限公司申請一項名為“一種半導(dǎo)體刻蝕設(shè)備及其控制方法”的專利，公開號CN121331731A，申請日期為2024年7月。專利摘要顯示，本申請?zhí)峁┮环N半導(dǎo)體刻蝕設(shè)備及其控制方法，半導(dǎo)體刻蝕設(shè)備包括柵網(wǎng)和至少一個電磁線圈；柵網(wǎng)包括多個網(wǎng)孔，離子束可以通過柵網(wǎng)的網(wǎng)孔進行引出。電磁線圈圍繞至少一個網(wǎng)孔或多個網(wǎng)孔環(huán)繞電磁線圈，至少一個電磁線圈用于提供目標形狀和目標強度的磁場，以利用目標形狀和目標強度的磁場控制通過多個網(wǎng)孔的離子束的空間分布，也就是說，通過在網(wǎng)孔周圍預(yù)先設(shè)置至少一個電磁線圈，通過設(shè)置至少一個電磁線圈的位置以及電流大小確定目標形狀和目標強度的磁場，目標形狀和目標強度的磁場就能夠?qū)νㄟ^網(wǎng)孔的離子束進行空間分布的